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6 月 27 日消息，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 在接受《日經亞洲》采訪時表示，該企業已同光學組件獨家合作伙伴蔡司一道啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發。

作為參考，目前的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系統采用 High NA (0.55NA) 光學系統，分辨率為 8nm。更高的分辨率意味著先進制程企業可減少曝光次數、提升光刻圖案質量。

Jos Benschop 提到，ASML 尚未設定 Hyper NA 光刻機推出的目標日期，不過項目開發目標是將 NA（IT之家注：數值孔徑）進一步提升到 0.7 乃至更高；5nm 的分辨率意味著 Hyper NA 系統能滿足 2035 年乃至更后階段的產業需求。

對于近來才啟動部署的 High NA 圖案化設備，這位 ASML 高管稱這些機臺的廣泛使用要晚一些，這是因為行業需要測試、驗證并建立相應的生態系統；0.55NA 光刻機預計可滿足本十年內乃至到三十年代初的行業需求。

關鍵字：ASML 光刻機蔡司引用地址：ASML 技術高級副總裁：已攜手蔡司啟動 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻機開發

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