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2018年05月24日 | 5nm、4nm、3nm,三星晶圓代工的“小目標(biāo)”

發(fā)布者:HeavenlyMelody 來源: 集微網(wǎng)關(guān)鍵字:三星 手機看文章 掃描二維碼
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憑借在DRAM和NAND Flash領(lǐng)域的優(yōu)勢,三星在過去的兩年里借著存儲漲價和缺貨掙得盆滿缽滿,更是一舉超越英特爾,成為全球最大的半導(dǎo)體公司,但是三星的野心并不止于此。


2018年5月24日,在美國舉行的三星工藝論壇SFF 2018 USA之上,三星正式宣布了5nm、4nm、3nm工藝計劃。


這一計劃關(guān)系到三星能否實現(xiàn)2018年晶圓代工營收達到100億美元的“小目標(biāo)”。


5nm、4nm、3nm持續(xù)推進


今年,獨立部門營運的三星晶圓代工事業(yè)部為自己的2018年立下了一個“小目標(biāo)”,即年營收達到100億美元,年增長率超過100%。


要知道,自從2015年三星與臺積電分別以14nm/16nm替蘋果代工生產(chǎn)A9處理器以來,過去兩年,包括iPhone 7、iPhone 8、iPhone X等在內(nèi)的A10及A11處理器均是由臺積電獨家包辦。


為了在未來更多的吸引到蘋果這樣的大客戶,三星也在加快自己的制程工藝的演進。


5月23日,集微網(wǎng)就曾報道過,三星宣布早已經(jīng)準(zhǔn)備好了7nm LPP 工藝,2018年下半年就可以基于全新工藝生產(chǎn)更小、更低功率的芯片。


而另一方面, 三星宣布的5nm、4nm、3nm工藝則更具沖擊力。


其中,4 納米工藝仍會使用現(xiàn)有的 FinFET 制造技術(shù),這一制造技術(shù)在高通驍龍 845 和三星 Exynos 旗艦芯片中均有使用。但到了 3 納米工藝結(jié)點,三星便開始拋棄 FinFET 技術(shù),轉(zhuǎn)而采用 GAA 納米技術(shù)。


具體如下:


7LPP (7nm Low Power Plus)?三星將在7LPP工藝上首次應(yīng)用EUV極紫外光刻技術(shù),預(yù)計今年下半年投產(chǎn)。關(guān)鍵IP正在研發(fā)中,明年上半年完成。


5LPE (5nm Low Power Early)?在7LPP工藝的基礎(chǔ)上繼續(xù)創(chuàng)新改進,可進一步縮小芯片核心面積,帶來超低功耗。


4LPE/LPP (4nm Low Power Early/Plus)?最后一次應(yīng)用高度成熟和行業(yè)驗證的FinFET立體晶體管技術(shù),結(jié)合此前5LPE工藝的成熟技術(shù),芯片面積更小,性能更高,可以快速達到高良率量產(chǎn),也方便客戶升級。


3GAAE/GAAP (3nm Gate-All-Around Early/Plus)


Gate-All-Around就是環(huán)繞柵極,相比于現(xiàn)在的FinFET Tri-Gate三柵極設(shè)計,將重新設(shè)計晶體管底層結(jié)構(gòu),克服當(dāng)前技術(shù)的物理、性能極限,增強柵極控制,性能大大提升。

三星的GAA技術(shù)叫做MBCFET(多橋通道場效應(yīng)管),正在使用納米層設(shè)備開發(fā)之中。


在高性能領(lǐng)域,三星也準(zhǔn)備了殺手锏,大規(guī)模數(shù)據(jù)中心、AI人工智能、ML機器學(xué)習(xí),7LPP和后續(xù)工藝都能提供服務(wù),并有一整套平臺解決方案。


三星在補充發(fā)言中提到,“Key IP”將在 2019 年上半年實現(xiàn)交付,這就意味著某個客戶的處理器芯片已經(jīng)向三星下訂單了,明年就能交付。


三星晶圓代工的“小目標(biāo)”


從涉足半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直到21世紀(jì)前幾年,三星和Intel都是IDM,自己家的晶圓廠只是生產(chǎn)自家的DRAM和Flash產(chǎn)品。


但到了2004年,看到市場前景和發(fā)展需求的三星在12寸晶圓廠導(dǎo)入了VLSI生產(chǎn)線,踏出了擴展非存儲器版圖的第一步。


再后來三星獲得了高通CDMA芯片訂單,緊接著,與蘋果的合作使三星晶圓業(yè)務(wù)進一步突飛猛進。


2017年5月三星宣布,將把晶圓代工部門從原本的系統(tǒng)晶片事業(yè)之中分拆出來,成為獨立事業(yè)。


到今年,三星晶圓代工部門則為自己樹立了一個年營收100億美元的“小目標(biāo)”。


為了實現(xiàn)這一目標(biāo),除了用不斷更新的高端工藝吸引客戶之外,三星在近期還宣布對外提供成熟的8英寸晶圓代工技術(shù)解決方案,為中小型企業(yè)提供多項目晶圓服務(wù)(MPW),面向整個市場全面開發(fā),以圖從競爭對手手中獲得更多的市場份額。


隨著多項目晶圓代工服務(wù)的開展,三星能夠其晶圓代工業(yè)務(wù)帶來更多的競爭優(yōu)勢呢?

據(jù)媒體報道,在三星此次宣布的多項目晶圓代工服務(wù)中三星的8英寸工藝技術(shù)產(chǎn)品解決方案主要圍繞eFlash、顯示器驅(qū)動IC、指紋傳感器、RF/IoT等領(lǐng)域,并且在成熟的180nm、130nm、90nm技術(shù)之外,還包括了65nm的eFlash以及70nm的顯示器驅(qū)動IC的解決方案。


如今的三星晶圓代工業(yè)務(wù),在高端制程領(lǐng)域面臨著來自臺積電的壓力,想要在短期內(nèi)憑借工藝贏得更多的市場份額,并不是一件容易的事情。而在其推出的8英寸晶圓代工上,中國大陸的企業(yè)已經(jīng)投入多年,并培養(yǎng)了一些相對成熟的企業(yè)和忠實的客戶,想要打破這種客戶關(guān)系,三星也是困難重重,恐難以寸進。


對三星來說,樹立一個年營收100億美元“小目標(biāo)”容易,5nm、4nm、3nm全新工藝的推出,能否幫助三星贏得市場優(yōu)勢,實現(xiàn)自己的目標(biāo),才是問題?。ㄐ?范蓉)

關(guān)鍵字:三星 引用地址:5nm、4nm、3nm,三星晶圓代工的“小目標(biāo)”

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