三菱電機日前推出其N系列1200V碳化硅(SiC)MOSFET,具有低功耗和高容限等特性。
具體來說,結型場效應晶體管(JFET)摻雜技術可降低開關損耗和導通電阻,從而實現了1450mΩ內阻。與使用常規的IGBT相比,功耗降低了約85%。
據稱,通過降低鏡像電容(MOSFET結構中柵極和漏極之間的雜散電容Crss),自導通容差比競爭對手的產品提高了14倍,因此可以實現快速的開關操作,有助于減少開關損耗。
降低的開關功率損耗之后可以選擇更高載頻的功率半導體,散熱器可實現小型化和簡化,以及諸如電抗器之類的外圍組件的小型化,從而有助于降低整個電源系統的成本和尺寸。
該公司表示,新系列產品可以幫助減少需要高壓轉換的小型電源系統的功耗,例如電動汽車(EV)車載充電器,光伏電源系統等。
樣品發貨將于七月開始。
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