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#光刻膠

簡介

光刻膠是一種高分子材料,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、光學(xué)等領(lǐng)域。

光刻膠是涂覆在芯片表面的一種光敏化合物,它經(jīng)過紫外線曝光和化學(xué)蝕刻后能夠形成微小的結(jié)構(gòu)。根據(jù)不同的應(yīng)用需求,光刻膠通常分為正膠和負(fù)膠兩種類型。

光刻膠的主要成分是高分子聚合物,例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS)。為了滿足不同的性能和應(yīng)用需求,通常還會添加其他化合物,如硅酮、碘銀等。

光刻膠在微電子制造中扮演著關(guān)鍵角色,被廣泛應(yīng)用于芯片制造和MEMS(微機電系統(tǒng))的制作。此外,它還在光學(xué)和光學(xué)纖維領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,例如制造平面顯示器、LED、柔性電子、光學(xué)透鏡和光學(xué)波導(dǎo)等方面。

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