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2018年03月12日 | Brewer Science為節(jié)點(diǎn)晶圓曝光制程提供具成本效益的另類方案

發(fā)布者:老衛(wèi) 關(guān)鍵字:OptiLign  DSA 手機(jī)看文章 掃描二維碼
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密蘇里州羅拉市 – 2018 年 3月 7 日 – Brewer Science, Inc. 今天在 2018 年 SPIE 先進(jìn)微影展覽會(huì)推出與 Arkema 合作研發(fā)的 OptiLign? 商業(yè)質(zhì)量導(dǎo)向的自組裝 (DSA) 材料組。目前 OptiLign 系統(tǒng)的自組裝制程需要三種材料:嵌段共聚合物、中性層以及導(dǎo)引層。這些DSA材料是利用 Brewer Science 的商業(yè)制造設(shè)備制成,合并研發(fā)這些材料旨在發(fā)揮最佳效能,提供具成本效益的先進(jìn)節(jié)點(diǎn)晶圓曝光制程,且生產(chǎn)的尺寸降低至 12nm。

 

盡管推動(dòng)摩爾定律的步伐變緩,許多代工和集成電路設(shè)備制造商繼續(xù)致力擴(kuò)充產(chǎn)品至更精細(xì)的節(jié)點(diǎn)。組件尺寸隨著每次節(jié)點(diǎn)的進(jìn)程而需要大幅縮減,卻因此一再擴(kuò)大制造設(shè)備的限制,因此使用現(xiàn)有的曝光制程(例如:自動(dòng)對(duì)位雙重曝光和自動(dòng)對(duì)位四重曝光)的成本大幅提高。正當(dāng)產(chǎn)業(yè)即將推出極紫外 (EUV) 微影,工具的成本將限制其應(yīng)用。DSA 為現(xiàn)有的流程提供另一種解決方案,且可利用現(xiàn)已安裝的晶圓制程工具組制造。此外,一旦可全面供應(yīng) DSA,將成為 EUV 的輔助工具。

 

Brewer Science Inc. 半導(dǎo)體事業(yè)部執(zhí)行總監(jiān) Srikanth (Sri) Kommu 博士表示:「OptiLign 從試制至上市量產(chǎn),意味著 DSA 邁向下一個(gè)重要里程碑,為半導(dǎo)體制造業(yè)帶來切實(shí)可行的選擇。過去產(chǎn)業(yè)端依賴升級(jí)設(shè)備,以通往下一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)。現(xiàn)在,材料解決方案正提供這樣的優(yōu)勢(shì),進(jìn)一步延展工具的性能。OptiLign 系列產(chǎn)品是此類模式改變的最佳示范?!?/p>

 

Brewer Science 的 OptiLign? DSA 系列產(chǎn)品提供所有自組裝所需的材料。嵌段共聚合物定義圖案、中性層促進(jìn)圖案在每層上形成,最后,導(dǎo)層指引材料方向和確定方位的方法。所有材料旨在同時(shí)使用,以達(dá)最佳績(jī)效,而且都須依賴材料和表面能量。此外,Brewer Science 與 Arkema 合作后即找到方法,透過獨(dú)特的聚合物制程,提供特征尺寸一致的 DSA 材料。此制程促進(jìn)批量生產(chǎn),以支持完整的技術(shù)節(jié)點(diǎn)、獨(dú)特的聚合物質(zhì)量和重復(fù)生產(chǎn)度,讓 OptiLign 將競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手遠(yuǎn)拋腦后。

 

Arkema 新興技術(shù)部總監(jiān) Ian Cayrefourcq 博士說明:「特征尺寸是建立在 DSA 材料的分子化結(jié)構(gòu)內(nèi),每個(gè)批次的尺寸都可能不同。因此,確保次納米級(jí)的重復(fù)生產(chǎn)度是一項(xiàng)考驗(yàn)。Arkema 量產(chǎn)相同尺寸聚合物的特殊制程,讓 Brewer Science 為技術(shù)節(jié)點(diǎn)在其使用期限內(nèi)都能提供一致特征尺寸的晶圓。」


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